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CMP設備

CMP是在IC 制造工程中晶圆表面平坦化工艺之一环,使用化学研磨剂、研磨垫等,通过化学和机械的复合作用,对晶圆表面的凹凸不平进行研磨,达到平坦化要求的设备。

  • ChaMP:小型CMP装置
    ChaMP:小型CMP設備
    半导体器件量产用,搭载了高性能CMP技术的小型化CMP設備。